LEAL-MARIN, S. M.; ESTUPIÑÁN-DURAN, H. A. Análisis por EIS, Mott Schottky y EFM de la estabilidad electroquímica y propiedades dieléctricas de recubrimientos Ca-P-Ag y Ca-P-Si-Ag obtenidos por oxidación por plasma electrolítico en Ti6Al4V. Revista Facultad de Ingeniería Universidad de Antioquia, [S. l.], n. 83, p. 9–19, 2017. DOI: 10.17533/udea.redin.n83a02. Disponível em: https://revistas.udea.edu.co/index.php/ingenieria/article/view/325455. Acesso em: 31 ene. 2025.