Leal-Marin, Sara María, y Hugo Armando Estupiñán-Duran. «Análisis Por EIS, Mott Schottky Y EFM De La Estabilidad electroquímica Y Propiedades dieléctricas De Recubrimientos Ca-P-Ag Y Ca-P-Si-Ag Obtenidos Por oxidación Por Plasma electrolítico En Ti6Al4V». Revista Facultad de Ingeniería Universidad de Antioquia, no. 83 (junio 26, 2017): 9–19. Accedido enero 31, 2025. https://revistas.udea.edu.co/index.php/ingenieria/article/view/325455.