Leal-Marin SM, Estupiñán-Duran HA. Análisis por EIS, Mott Schottky y EFM de la estabilidad electroquímica y propiedades dieléctricas de recubrimientos Ca-P-Ag y Ca-P-Si-Ag obtenidos por oxidación por plasma electrolítico en Ti6Al4V. Rev.Fac.Ing.Univ.Antioquia [Internet]. 26 de junio de 2017 [citado 31 de enero de 2025];(83):9-19. Disponible en: https://revistas.udea.edu.co/index.php/ingenieria/article/view/325455