ESTUDIO DE LA ESTRUCTURA DE RECUBRIMIENTOS DE SILICIO DEPOSITADOS MEDIANTE PROYECCIÓN TÉRMICA POR LLAMA OXIACETILÉNICA
DOI:
https://doi.org/10.17533/udea.rcm.19586Resumen
Se estudió el efecto del tipo de llama, del tipo de sustrato y de la distancia de proyección sobre la porosidad y el espesor de recubrimientos de silicio depositados por medio de proyección térmica por llama oxiacetilénica. Para la elaboración de los recubrimientos se utilizó una llama reductora, una neutra y una oxidante, con el objetivo de calentar y posteriormente proyectar las partículas de silicio sobre sustratos de aluminio y de Ti6Al4V, a una distancia de proyección de 15 cm y 8.5 cm. Los resultados indican que los recubrimientos depositados a 8.5 cm son más compactos y que la utilización de una llama neutra reduce ligeramente la porosidad y permite tener capas más gruesas. Así mismo, los recubrimientos depositados sobre sustratos de Ti6Al4V presentaron menor porosidad y menos fallas estructurales que los depositados sobre aluminio.
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Publicado
2014-05-21
Cómo citar
Vallejo Pérez, M., Gómez García, I. C., Zuluaga Castrillón, D., Hernández Ruiz, J. F., Vargas Galvis, F., & López Gómez, M. E. (2014). ESTUDIO DE LA ESTRUCTURA DE RECUBRIMIENTOS DE SILICIO DEPOSITADOS MEDIANTE PROYECCIÓN TÉRMICA POR LLAMA OXIACETILÉNICA. Revista Colombiana De Materiales, (5), 145–151. https://doi.org/10.17533/udea.rcm.19586
Número
Sección
Artículos