Recubrimientos de TiAlN sobre acero ASTM A36 por el proceso de sputtering reactivo RF
DOI:
https://doi.org/10.17533/udea.redin.343445Palabras clave:
películas de TiAlN, sputtering reactivo R.FResumen
Películas de TiAlN fueron depositadas sobre acero ASTM A36 por el proceso de sputtering reactivo RF utilizando un blanco en polvo con composición TiAl (60/40%), en el proceso se utilizaron dos relaciones de presión (PN/PTotal), 0,05 y 0,1, manteniendo constante la presión de argón. Las películas se depositaron sobre probetas en estado de suministro, templadas y revenidas, nitruradas por plasma, con recubrimientos previos de Ti y TiN a una temperatura de 230 oC. Las películas presentaron una composición Ti0.4Al0.6N con orientación preferencial (200); las mejores propiedades de dureza, resistencia a la corrosión, resistencia al desgaste fueron con la relación de presión de 0,1 y la mayor adherencia con la relación de presión de 0,05. La máxima dureza fue de 2500 HK.
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